Café Scientifique ECL, W1, amphi 203 Lundi 17 février, 13h00-14h00

Marjorie Cavarroc - Safran Tech

Ingénierie des surfaces par procédés plasmas : du laboratoire aux applications aéronautiques

• Les technologies de dépôt de couches minces par procédé plasma jouent un rôle crucial dans l’amélioration de la performance et la décarbonation du secteur aéronautique, notamment en répondant aux défis de durabilité, de réduction des émissions de CO2 et d'optimisation des caractéristiques des matériaux utilisés les différentes applications aéronautiques. Ces procédés, qui incluent la PVD (Physical Vapor Deposition - pulvérisation magnétron, pulvérisation magnétron réactive, HiPIMS …) et la PECVD (Plasma Enhanced Chemical VaporDeposition), permettent d'élargir les possibilités d'ingénierie des matériaux tout en offrant des solutions pour répondre aux exigences de plus en plus strictes en matière de performance et de respect de l'environnement.

• Les matériaux déposés par plasma, tels que les films minces d'alliages métalliques, de céramiques ou de matériaux nanocomposites, sont utilisés dans des applications variées allant de la protection contre l'usure et la corrosion à l'amélioration des performances à haute température. En optimisant les propriétés de surface des composants, ces technologies permettent d'augmenter la durée de vie des pièces tout en réduisant la consommation de carburant et les émissions de gaz à effet de serre.

• De plus, ces procédés offrent la possibilité de déposer des matériaux fonctionnels sur des substrats légers permettant de concevoir des composants moins lourds et plus résistants. Les technologies de dépôt de couches minces par procédé plasma apportent des solutions innovantes et efficaces pour améliorer la performance des systèmes aéronautiques tout en soutenant les objectifs de décarbonation du secteur.